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Produktliste
Cluster- und Inline-Anlagen
AURION bietet speziell auf Ihre Anforderungen zugeschnittene Mehrkammeranlagen mit Substrathandhabung unter Vakuum an. Die erhältlichen Konfigurationen umfassen Schleusenkammern, Transferkammern und Prozessmodule für Sputter- und RIE-Prozesse.
Anbieter: Aurion Anlagentechnik GmbH 63500 Seligenstadt
RFG-L Series
RF Generatoren mit aktivem Frontpanel für folgende Anwendungen:
Plasma Assist for Atomic Layer Deposition (ALD)
Atomic Layer Etching
RF Sputtering
Thin Film Coating
PE-CVD
Reactive Ion Etching (RIE)
Substrate Biasing
Hersteller: Barthel HF Technik GmbH
Anbieter: barthel HF-Technik GmbH 52072 Aachen
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