Unter der Elektronenstrahllithografie wird
in der Mikro- und Halbleitertechnik ein spezielles Verfahren zur Strukturierung einer Elektronenstrahl-empfindlichen Oberfläche verstanden.
Z.B. wird dieses Verfahren bei der Herstellung von mikroelektronischen Schaltkreisen für moderne elektronische Geräte verwendet. Wichtig für diese Verfahren ist, dass der Elektronenstrahl unter einer konstanten Spannung gehalten wird.
Die von FuG Elektronik gebaute Vielfachhochspannungsversorgung verfügt über drei hochgenaue Spannungs- und eine hochgenaue Stromquelle. Diese werden auf einem gemeinsamen Hochspannungspotential von max. 105kV betrieben. Damit kann der Elektronenstrahl mit hoher Stabilität gesteuert werden.

Besonderheiten
- Sehr geringe Ausgangswelligkeit bis min. 1x 10-6ss
- Hohe Temperaturstabilität von 1x 10-5/24 Std
- Spezielle, kompakte Hochspannungsisolierung
- Modularer Aufbau
- Alle Hochspannungsquellen mit kurzschlussfesten Ausgängen
- Die komplette Steuerung und Überwachung des Netzgerätes erfolgt über eine zentrale digitale LAN-Schnittstelle.